蔵書情報
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書誌情報サマリ
資料名 |
日本の米 (中公新書)
|
著者名 |
降幡 賢一/著
|
著者名ヨミ |
フリハタ ケンイチ |
出版者 |
中央公論社
|
出版年月 |
1981.11 |
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資料情報
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No. |
所蔵館 |
資料種別 |
配架場所 |
状態 |
帯出区分 |
請求記号 |
資料番号 |
貸出
|
1 |
本館 | 図書一般 | 書庫 | 在庫 | 帯出可 | 611.3/14/ | 0111552980 |
○ |
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1006010015048 |
書誌種別 |
図書 |
著者名 |
降幡 賢一/著
|
著者名ヨミ |
フリハタ ケンイチ |
出版者 |
中央公論社
|
出版年月 |
1981.11 |
ページ数 |
236p |
大きさ |
18cm |
ISBN |
4-12-100634-8 |
分類記号(9版) |
611.33 |
分類記号(10版) |
611.33 |
資料名 |
日本の米 (中公新書) |
資料名ヨミ |
ニホン ノ コメ |
叢書名 |
中公新書 |
叢書名巻次 |
634 |
副書名 |
産地からの報告 |
副書名ヨミ |
サンチ カラ ノ ホウコク |
(他の紹介)内容紹介 |
製造装置の構想・構成から、検査・想定・解析装置まで。製造装置の現状と進歩が図解でよくわかる! |
(他の紹介)目次 |
第1章 半導体製造装置を取り巻く現状 第2章 半導体製造装置をファブから理解する 第3章 洗浄・乾燥装置 第4章 イオン注入装置 第5章 熱処理装置 第6章 リソグラフィー装置 第7章 エッチング装置 第8章 成膜装置 第9章 平坦化(CMP)装置 第10章 検査・測定・解析装置 第11章 後工程装置 |
(他の紹介)著者紹介 |
佐藤 淳一 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。1978年、東京電気化学工業(株)(現TDK)入社。1982年、ソニー(株)入社。一貫して、半導体や薄膜デバイス・プロセスの研究開発に従事。この間、半導体先端テクノロジーズ(セリート)創立時に出向、長崎大学工学部非常勤講師などを経験(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです) |
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